Главная » Android » Илон Маск: долой патенты. Технологии Tesla доступны всем

Илон Маск: долой патенты. Технологии Tesla доступны всем

Большое количество компаний стремится тщательно защитить свои разработки, технологии и продукты от заимствования идей конкурентами. Они защищают их патентами и много тех, кто достаточно агрессивно отстаивает свои права на интеллектуальную собственность. Так, мы с вами являемся свидетелями ожесточенной патентной войны в судебных инстанциях с участием Apple и Qualcomm. Самый страшный кошмар для них — мир, в котором все свободно используют, принадлежащие им патенты, лишив их одного из внушительных источников доходов. Но нашелся в мире «Дон Кихот», который готов подарить этому испорченному деньгами миру патенты.

Илон Маск: долой патенты. Технологии Tesla доступны всем – фото 1

Илон Маск, генеральный директор и идейный вдохновитель Tesla, считает, что патенты сдерживают прогресс и служат лишь инструментом для монетизации разработок, а весь доход оседает в карманах корпораций и юристов, но не авторов изобретений. Он заявил, что все патенты, которые принадлежат Tesla, отныне доступны для всех и компания не будет просить никаких отчислений за их использование. По словам Илона Маска, такой шаг только укрепит позиции Tesla, и они не будут инициировать судебные иски против тех, кто возьмет на вооружение их технологии и разработки. Этот жест доброй воли продиктован желанием не только спасти мир, но и надеждой дать толчок развитию электрокаров и технологий, связанных с ними. Вместе с тем он заявил Tesla будет открыто выступать против тех алчных корпораций и фирм, которые будут использовать технологии Tesla ради наживы, завышая цены на свои продукты. Илон Маск надеется, что они не будут одиноки в своем начинании и другие компании последуют их примеру только бы двигать прогресс. Кстати, это не первый раз, когда Илон Маск выступает с таким заявлением и исповедует принцип альтруизма в отношении патентов.

Илон Маск: долой патенты. Технологии Tesla доступны всем – фото 2  

Автор: Ирина Кошелева Дата публикации: 01.02.2019